P04200 - SEMI P42 - ウェーハ露光システムへの自動レシピ伝送のためのレチクルデータの仕様

SEMI P42 - ウェーハ露光システムへの自動レシピ伝送のためのレチクルデータの仕様 -

Member Price: $171.00
Non-Member Price: $224.00

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

Revision: SEMI P42-0304 - Inactive

Revision

Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

本仕様は，Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は，200年月9日Japanese Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能になり，2004年3月発行に至る。

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

本仕様では，ウェーハ露光ツール用にレシピを準備するためのレチクルデータのフレーム情報から構成される共通データインタフェースを定義する。このインタフェースを利用することにより，ウェーハ露光ツールでレシピを作成する時にデータを再使用できるように，設計とウェーハ製造の間でデータを取り扱うことができるようになる。本スタンダードは，ウェーハ露光ツールの自動レシピ生成を支援することを意図している。

本スタンダードでは，ウェーハ露光装置の自動レシピ作成におけるフレーム情報について詳述する。本スタンダードでは，設計，マスク製作，ウェーハ製造プロセスの作業フローにおける通信インタフェースに焦点を当てる。

本スタンダードでは，ウェーハ露光装置のレチクル設計およびレシピ作成時に必要な共通設計情報の項目を定義する。

本スタンダードでは，サプライヤや露光装置の型式に依存せずに共通に使用可能なデータインタフェースについて定義する。

Referenced SEMI Standards

None.

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