D02100 - SEMI D21 - FPDマスクパターン精度の用語

本スタンダードは，global Flat Panel Display Committeeで技術的に承認されている。現版は2006年5月16日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年6月にwww.semi.orgで，そして2006年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1992年発行，前版は2000年10月発行。

この文書は，FPD用マスクの欠陥用語を定義する。このスタンダードにより，技術会議や商談の場などで使用される用語が明確になり，マスクに関する標準化が促進されることをねらいとしている。

これらの用語は，主にFPDを製造するのに使用するフォトマスクに適用される。

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