SEMI D21 - FPDマスクパターン精度の用語 -
Abstract
本スタンダードは,global Flat Panel Display Committeeで技術的に承認されている。現版は2006年5月16日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年6月にwww.semi.orgで,そして2006年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1992年発行,前版は2000年10月発行。
この文書は,FPD用マスクの欠陥用語を定義する。このスタンダードにより,技術会議や商談の場などで使用される用語が明確になり,マスクに関する標準化が促進されることをねらいとしている。
これらの用語は,主にFPDを製造するのに使用するフォトマスクに適用される。
Referenced SEMI Standards
None.
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D02100 - SEMI D21 - FPDマスクパターン精度の用語
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