SEMI E113 - 半導体処理装置の高周波(RF)電力供給システム用仕様

Volume(s): Equipment Automation Hardware
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,Metrics Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年5月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2001年11月発行。前版は2006年3月発行。

 

注意: 本文書は,編集上の修正を伴い,再承認された。

 

プロセス・プラズマが,薄膜のエッチングまたは堆積を通して半導体産業に使われる。大多数のプロセス・チェンバーは,プラズマを作り,維持するために高周波 (RF) 電力を使う。信頼性,そしてプラズマの反復性はウエーハ処理結果に直接衝撃を与えるために,RF電力供給システムは半導体製造技術の重要な要素である。全RF(高周波)電力発生システムの正確で再現可能な性能,影響されるRFを含む,プラズマのパラメータが,一般に認められた許容限度範囲内でなければならない。

 

RFの信頼性と反復性のための設計基準は標準化テストとRF電力供給システムの性能評価とチェンバーの制御測定器の性能評価を必要とする。サブシステム(すなわち発振器,ケーブルアセンブリ,整合回路網,チャックおよびコイル)が特徴付けられるだけでなく,統合化システムの性能もまた,意図された動作範囲にわたり特徴付けられなければならない。

 

このスタンダードの意図は,システムとサブシステムの性能を改善に至る,半導体処理装置用のRF電力供給仕様を提供することである。それは,システムまたはサブシステム構成要素を供給されなければならない必須の文書と同様に性能基準を概説する。この文書のゴールは,安定性,反復性と重要な電気的なパラメータ,例えば供給電力,電流および電圧,システムのインピーダンスが操作空間内で決定できるような,十分に特徴づけられたRF電力供給システムを生産するために必要な仕様を提供することである。

 

この文書は半導体産業で使われたRF装置用の最小限の性能基準を規定する。特定のテスト方法または性能確認の手続きに取り組むものではない。

 

この仕様は主に半導体処理装置に的を絞り,下記の装置型を含むが,それに限定されるものではない。

ドライエッチ装置

薄膜堆積装置 (CVDPVD)

 

この仕様は,電力がプラズマを作り,維持するために直接使われる半導体処理装置のRF(高周波)電力供給システムに適用される。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI E10 — Specification for Definition and Measurement of Equipment Reliability, Availability, and Maintainability (RAM)
SEMI E78 — Electrostatic Compatibility – Guide to Assess and Control Electrostatic Discharge (ESD) and Electrostatic Attraction (ESA) for Equipment
SEMI E114 — Test Method for RF Cable Assemblies Used in Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems
SEMI E115 — Test Method for Determining the Load Impedance and Efficiency of Matching Networks Used in Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems
SEMI E135 — Test Method for RF Generators to Determine Transient Response for RF Power Delivery Systems used in Semiconductor Processing Equipment
SEMI E136 — Test Method for Determining the Output Power of RF Generators Used in Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems

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