E13600 - SEMI E136 - 半導体処理装置の高周波（RF）電力供給システムで使用されるRF電源の出力を決定するためのテスト方法

SEMI E136 - 半導体処理装置の高周波（RF）電力供給システムで使用されるRF電源の出力を決定するためのテスト方法 -

Member Price: $171.00
Non-Member Price: $224.00

Volume(s): Equipment Automation Hardware
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements/System Requirements

Revision: SEMI E136-1104 (Reapproved 0512) - Superseded

Revision

Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項：　このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。

 

本スタンダードは，Metrics Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年5月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2004年11月発行。

　

注意: 本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された。

　

本テスト方法の目的は，半導体処理装置の高周波 (RF) 電力供給システムで使用されるRF電源の出力を測定する正確な方法を提供し，SEMI E113をサポートすることである。

 

本テスト方法では，RF電源から出力される真の出力（つまり加熱電力）を決定するために必要なテスト手順および装置を指定する。このテスト方法では，参照スタンダードとして，正確なDC置換手法を使用して予め校正された熱量電力計を使用する。

　

本テスト方法の主な対象は，次のタイプの半導体処理装置であるが，それらには限定されない。

• ドライエッチング装置，および

• 薄膜堆積装置 (CVDとPVD)

　

Referenced SEMI Standards

SEMI E113 — Specification for Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems
SEMI E114 — Test Method for RF Cable Assemblies Used in Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems

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