F00100 - SEMI F1 - 高純度ガス配管系および部品の漏れ完全性仕様

Volume(s): Facilities
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

この仕様は半導体製造に使用される高純度ガス配管系および部品の,漏れ試験の要求条件と漏れ率を定義する。また,装置,材料,サービスの調達および設置に役立つことも目的としている。


この仕様は半導体製造設備と,これに匹敵する研究開発エリアで使用される,高純度ガス配管系および部品に適用される。


この仕様は,完全なシステム,サブシステム,および個々の部品に対する試験方法が含まれる。


この仕様はユーザと製造者の双方に対する要求条件を記載し,また受け入れ試験および検定試験のための漏れ率限度を確立する。

 

Referenced SEMI Standards (purchase separately)

SEMI S2 — Environmental, Health, and Safety Guideline for Semiconductor Manufacturing Equipment

 

Revision History

SEMI F1-0812 (technical revision)

SEMI F1-96 (technical revision)

SEMI F1-90 (first published)

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