SEMI F35 - 非浸入式酸素測定を使用した超高純度ガス分配システムの安全性を確認するためのテスト方法 -

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Volume(s): Facilities
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

Revision: SEMI F35-0304 - Inactive

Revision

Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本テスト方法は,Global Gases Committeeで技術的に承認されたもので,North American Gases Committeeが直接責任を負うものである。現版は2003年12月4日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,2004年3月発行に至る。初版は1998年発行。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

本テスト方法は,大気中の酸素の浸入を検出することによって,超高純度(UHP)ガス分配システムの完全性を監視する手順について規定する。本テスト方法は,対象となっているUHPガスを使用したプロセス装置の中断を必要とせずに,非浸入式のO2測定を使用することによって,「活動中の」UHPガス分配システムを連続的に評価するために使用される。

 

本テスト方法は,UHPガスを使用する半導体製造プロセスを保護するために使用すべきである。UHPガスは,製品歩留まりの問題が生じる以前に,N2O2H2OCO2のような,いずれの共通大気不純物による汚染からも影響を受けやすい場合がある。

 

非浸入式の漏洩検出と位置決めの手順について解説が行われたのは,本テスト方法が最初である。本テスト方法は,質量分析計とヘリウムトレーサガスを使用して漏洩源を特定するための浸入式技術であるSEMI F1とは異なる。

 

本テスト方法は,半導体製造設備や同等の研究開発分野で使用されるUHPガス分配システムに適用される。

 

本テスト方法は,N2ArHeH2N2OSF6,および多くの含ハロゲン炭素化合物のようなUHPガスを運ぶ大量ガス分配システムに適用される。ほとんどの場合,O2は,超微量レベル(一般に1.0 ppb未満)でのみ存在する。

 

本テスト方法では,UHPガス分配システムについてリアルタイムの監視を行うことができる。その結果,有意なシステムの完全性の確認,大気汚染物質の傾向分析,および漏洩箇所の突き止めが可能である。

 

本テスト方法を使用して,ユーザは,UHPガス分配システム内への大気の漏洩源を特定してトラブルシューティングを行うための,十分な情報を得ることができる。

 

本テスト方法には,必要とされるO2分析装置の仕様,O2分析装置を適切に使用するための標準的方法,および大気の漏洩源を特定するためのO2データ操作などが含まれる。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI F1 — Specification for Leak Integrity of HighPurity Gas Piping Systems and Components

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