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SEMI F98 - 半導体プロセスにおける用水再処理のためのガイド -
Abstract
NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.
免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。
本スタンダードは，Facilities Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年9月12日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2011年11月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2005年3月発行。
注意: 本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された。
本ガイドでは，半導体製造設備における工業用水再処理システムの明確な要求条件を定める。これは，そのようなシステムの設計，性能，最適化，および監視に関わる詳細仕様を本ガイドに続く文書として作成する際に共通土台となることを意図している。
本文書は，現場に固有の仕様および性能判定基準を作成するための土台としてユーザおよびサプライヤが使用できる。
本ガイドは，再生やリサイクルも含め，半導体製造設備で使用される水の再利用のために設計され，さまざまな用途に水を供給する水システムに適用される。そのような用途には，水質により，超純水システムの前工程，冷却システム，スクラバ，熱処理，そして水利システムへの供給がある。
本ガイドを使用して水の再利用をサポートする水システムの設計要素と機能を理解できる。そのようなシステムは既存の製造工場に後付けできるが，節水を考慮して設計できる新しい施設には，広範囲の機会がある。
Referenced SEMI Standards
SEMI E49 — Guide for High Purity and Ultrahigh Purity Piping Performance, Subassemblies, and Final Assemblies SEMI F63 — Guide for Ultrapure Water System Used in Semiconductor Processing SEMI S2 — Environmental, Health, and Safety Guideline for Semiconductor Manufacturing Equipment
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