SEMI M34 - SIMOXウェーハを規定するための指針

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

この指針は,半導体装置の製造に用いられる厚さ0.5 μm以下のシリコンフィルムを持つSIMOX(酸素の注入による分離)ウェーハの仕様のためのものである。これらの仕様は,SIMOX SOIウェーハの包括的な特性を定めている。計測されたパラメータに対する特定値は,適用のためユーザとサプライヤとの間の合意によって決定される。パラメータ,検査要領及び合格基準を定めることにより,ユーザとサプライヤは共に,一律に製品特性及び品質の要求条件を決めることができる。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers
SEMI M22 — Specification for Dielectrically Isolated (DI) Wafers

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