SEMI M35 - 自動検査により検出されるシリコンウェーハ表面特性の仕様を開発するためのガイド

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

本スタンダードは,global Silicon Wafer  Committeeで技術的に承認されている。現版は200795日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。200710月にwww.semi.orgで,そして200711月にCD-ROMで入手可能となる。初版は19992月発行,前版は200511月に発行された。

 

 シリコンウェーハ表面の検査は,すべての商業的に販売されているシリコンウェーハにおいて標準な出荷試験となっている。

 

古い仕様は,ウェーハ表面の目視検査を基準としているが,技術の進歩にともなって,多くの表面の検査対象欠陥サイズが目視検査で行うには小さすぎるようになってきている。このため,(目視検査に変わる)別のやり方の表面検査が必要になってきている。

 

このガイドは,スキャニング(または自動の)表面検査システム(SSISscanning  surface inspection systems)を用いてシリコンウェーハの表面特性測定を記録するための仕様の枠組みを提供する。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Polished Silicon Wafers
SEMI M53 — Practice for Calibrating Scanning Surface Inspection Systems using Depositions of Monodisperse Polystyrene Latex Sphere on Unpatterned Semiconductor Wafer Surfaces

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