M03500 - SEMI M35 - 自動検査により検出されるシリコンウェーハ表面特性の仕様を開発するためのガイド

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本スタンダードは,global Silicon Wafer  Committeeで技術的に承認されている。現版は200795日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。200710月にwww.semi.orgで,そして200711月にCD-ROMで入手可能となる。初版は19992月発行,前版は200511月に発行された。






このガイドは,スキャニング(または自動の)表面検査システム(SSISscanning  surface inspection systems)を用いてシリコンウェーハの表面特性測定を記録するための仕様の枠組みを提供する。


Referenced SEMI Standards

SEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Polished Silicon Wafers
SEMI M53 — Practice for Calibrating Scanning Surface Inspection Systems using Depositions of Monodisperse Polystyrene Latex Sphere on Unpatterned Semiconductor Wafer Surfaces

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