M03800 - SEMI M38 - 鏡面リクレイムシリコンウェーハの仕様

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本スタンダードは,global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は20061121日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。20072月にwww.semi.orgで,そして20073月にCD-ROMで入手可能となる。初版は19999月発行,前版は20063月に発行された。



サプライヤマーク付き裏面を持つ300 mm ウェーハの場合は時として,1回ないし数回のリクレイムサイクル後にマークを再刻印する必要がある。従って,本仕様書にはそのようなウェーハの再刻印を規定する付属書が含まれる。


Referenced SEMI Standards

SEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers
SEMI M8 — Specification for Polished Monocrystalline Silicon Test Wafers
SEMI M18 — Format for Silicon Wafer Specification Form for Order Entry

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