M04000 - SEMI M40 - シリコンウェーハ表面のラフネス測定のガイド

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本スタンダードは,global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は200994日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。200910月にwww.semi.orgで,そして200911月にCD-ROMで入手可能となる。初版は20002月に発行された。



このガイドは,シリコンウェーハの表面ラフネスの特徴を調べ,報告するのに使用する測定方法を規定する手順を記述する。それは,さらに他のタイプの平面ウェーハ材料にも適用できる。SEMI M1に規定されているようなシリコンウェーハの研磨された表面のラフネスは一般にマイクロラフネス領域にあることに注意をすべきである。







Referenced SEMI Standards

SEMI E89 — Guide for Measurement System Analysis (MSA)
SEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers
SEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System
SEMI M50 — Test Method for Determining Capture Rate and False Count Rate

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