SEMI M58 - DMAを基にしたパーティクル堆積システムとプロセス評価のためのテスト方法

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

本スタンダードは,global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2009年9月4日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2009年10月にwww.semi.orgで,そして2009年11月にCD-ROMで入手可能となる。初版は2004年7月に発行された。

 

SEMI M52は,走査型表面検査システム(SSISs: scanning surface inspection systems)の校正のため,認証された標準試料(CRMs: certified reference materials)の使用を要求している。校正方法は,SEMI M53で規定されている。本テスト法は,差分移動度解析器(DMA: differential mobility analyzer)を用いた特定のパーティクル堆積システムが,要求されているCMRsを制作出来るか否かを決定する手順を提供する。

 

自家使用のため内部で堆積を行う組織,および販売目的で堆積物を製造する会社は共に,彼らのパーティクル堆積システムがSEMI M52の要求を満たす堆積を保証するため,本テスト方法を適用することが出来る。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI M50 — Test Method for Determining Capture Rate for Surface Scanning Inspection Systems by the Overlay Method
SEMI M52 — Guide for Specifying Scanning Surface Inspection Systems for Silicon Wafers for the 130 nm, 90 nm, 65 nm, and 45 nm Technology Generations
SEMI M53 — Practice for Calibrating Scanning Surface Inspection Systems using Depositions of Monodisperse Reference Spheres on Unpatterned Semiconductor Wafer Surfaces
SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology
SEMI ME1392 — Guide for Angle Resolved Optical Scatter Measurements on Specular or Diffuse Surfaces
SEMI MF1811 — Guide for Estimating the Power Spectral Density Function and Related Finish Parameters from Surface Profile Data

Related Products
Interested in purchasing additional SEMI Standards?

Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards.
Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00