SEMI M64 - 赤外線吸収スペクトル法による絶縁(SI)ガリウムヒ素単結晶内のEL2深いドナー濃度の試験方法 -
Abstract
本試験方法は,global Compound Semiconductor Committeeで技術的に承認されている。現版は2005年11月29日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年1月にwww.semi.orgで,そして2006年3月にCD-ROMで入手可能となる。
本文書の目的は,赤外線吸収法によってSI GaAs内の深いドナーEL2の濃度を測定する方法を指定することである。
Referenced SEMI Standards
SEMI M39 — Test Method for Measuring Resistivity and Hall Coefficient and Determining Hall Mobility in Semi-Insulating GaAs Single Crystals
Interested in purchasing additional SEMI Standards? Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards. |
Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.
M06400 - SEMI M64 - 赤外線吸収スペクトル法による絶縁(SI)ガリウムヒ素単結晶内のEL2深いドナー濃度の試験方法
Sale price$224.00 USD
Regular price$180.00 USD (/)
This product has no reviews yet.