M07000 - SEMI M70 - パーシャルサイト平坦度を使ってウェーハのエッジ近傍形状を決定するための作業方法

Volume(s): Materials
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本スタンダードは,global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は200994日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。200910月にwww.semi.orgで,そして200911月にCD-ROMで入手可能となる。初版は20073月発行,前版は200811月に発行された。








PSFQR または PSFQD法は,ウェーハエッジの大半をカバーするサイトパターンを採用した場合に,ウェーハエッジ近傍形状を定量化するのに適している。






Referenced SEMI Standards

SEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers
SEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System
SEMI M49 — Guide for Specifying Geometry Measurement Systems for Silicon Wafers for the 130 nm to 22 nm Technology Generation

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