P00100 - SEMI P1 - ハードサーフェス・フォトマスク用基板

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。



本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008年5月13日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2008年6月にwww.semi.orgで。初版は1981年,前版は2001年11月に発行された。

E 本スタンダードは2009年6月,編集上の誤りを修正するため改訂された。表A1-1で変更がなされている。


NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.


注意: 本文書は2008年全面的に書き換えられた。




本スタンダードでは, 7インチ長を上限とする方形フォトマスクを扱う。


また, 本スタンダードは, 次の材質に関する仕様を規定する。

  • 高熱膨張品(HTE
  • 中熱膨張品(MTE
  • 低熱膨張品(LTE
  • 合成石英(SFS
  • 193 nm波長用高照射耐性合成石英(DSFS)ガラス


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