SEMI P2 - ハードサーフェス・フォトマスク用クロムブランク

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008年1月18日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2008年2月にwww.semi.orgで。初版は1998年に発行された。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

注意: 本文書は2008年全面的に書き換えられた。

 

このスタンダードは,ハードサーフェスフォトマスク用クロムブランクに関する一般的必要項目について述べる。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask Substrates

Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00