SEMI P5 - ペリクルの仕様

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

本仕様は,Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので,North American Microlithography Committeeが直接責任を負うものである。現版は,2004422North American Regional Standards Committeeにて承認されている。20046月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,20047月発行に至る。初版は1986年発行,前版は1994年発行。

注意: 本文書は2004年,SEMI P5SEMI P5.1SEMI P5.2をまとめて全面的に書き換えられた。

 

本仕様は,フォトリソグラフィ露光システムで使用されるフォトマスクまたはレチクルに使われるペリクルに対する要求項目について述べる。本仕様は広帯域光,多色光または単色光の露光システムに使われるペリクルについて述べる。

 

 

Referenced SEMI Standards

None.

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