P00900 - SEMI P9 - マイクロエレクトロニクス用レジストの機能的なテスト(ガイドライン)

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

 

このガイドラインの目的は,液体で現像されるレジスト,レジスト現像液,及びマイクロエレクトロニクス用デバイスのためのリンスを機能的にテストするのに必要なテスト手順の基礎的プログラムを規定することである。それは更にそのようなシステムに対するプロセス修正を評価するためのガイドとしても使用できる。このガイドラインは,フォト,DUV,X線,及び電子ビームプロセスに使用しようとするものである。

 

本書に示されている情報の公表は,SEMIレジスト委員会によって1987年5月に承認された。この委員会は,ガイドラインを完成させ,適切に改定する予定であり,コメントを歓迎している。

 

実質的には,全てのリソグラフプロセスは,同じタイプのレジストに対してさえも,場所によって何かしら変わってくる。その結果殆どのユーザに受け入れられるような厳しい評価プログラムを規定することは不可能である。それ故,変えられるが,プロセスの相違を制御できるテストプログラムと方法を規定するのが本ガイドラインの狙いである。それぞれのプロセスに対して適切な基本的制御方法を維持するために,全てのテストは,その機能的特性が既知でありかつ特性化されている或る内部の標準製品を基準として実施されるべきである。それぞれの生産は各自が所望するか又は推奨する条件に基づいて実施されるべきであり,異なる製品は異なる条件のもとで評価することができるということが分かっている。そして,或る性質,変数,又は規定度のような条件は,ポジティブフォトレジストのようなレジストタイプに特定され,適用できる場合のみ使用されるべきであるということも理解されるべきである。更に,このガイドは機能的テストを指向しているので,評価されるべき製品は,そのような機能的テストの前に全ての関連のある化学的及び物理的テストをパスするものとされている。

 

Referenced SEMI Standards

None.

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