SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様 -

Abstract

本スタンダードは，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008年5月13日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年6月にwww.semi.orgで，そして2008年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1990年発行，前版は2007年7月に発行された。

 

このデータ構造仕様は，ソフトウェアシステム間でのマスクオーダーデータの伝送を促進し，次のものを可能にする：

·       マスクユーザによる自動的なオーダー入力，そしてマスク業者によるそのオーダーの自動的処理。

·       マスクショップによる実際のマスク結果と品質データの自動的なオーダー，そしてマスクユーザによるそのデータの自動処理。

 

この標準化されたデータ構造を用いてマスクユーザまたはマスク業者のどちらかに対し，それぞれ独立に書かれたソフトウェアを他のグループによって書かれたソフトウェアと確実に通信できるようにすべきである。

　

Referenced SEMI Standards

SEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask Substrates
SEMI P2 — Specification for Chrome Thin Films for Hard Surface Photomasks
SEMI P4 — Specification for Round Quartz Photomask Substrates
SEMI P5 — Specification for Pellicles
SEMI P6 — Specification for Registration Marks for Photomasks
SEMI P21 — Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment
SEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification And Size Definition
SEMI P24 — CD Metrology Procedures
SEMI P29 — Guideline for Description of Characteristics Specific to Halftone/Attenuated Phase Shift Masks and Mask Blanks
SEMI P35 — Terminology for Microlithography Metrology
SEMI P37 — Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Mask Substrates
SEMI P38 — Specification for Absorbing Film Stacks and Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blanks
SEMI P39 — Specification for Open Artwork System Interchange Standard (OASIS)
SEMI P43 — Photomask Qualification Terminology

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