SEMI P16 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・メタルイオンフリー(MIF)現像液中の錫の測定

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので,North American Microlithography Committeeが直接責任を負うものである。現版は2004年7月11日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年9月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,2004年11月発行に至る。初版は1992年発行。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

この手順は,フォトレジストMIF現像液中の錫に対する黒鉛炉原子吸収分析法を述べたものである。適用し得る濃度範囲は20から1000 ppmである。

 

Referenced SEMI Standards

None.

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