SEMI P19 - 集積回路製造用メトロロジパターンセル -
Abstract
本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年4月25日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年6月にwww.semi.orgで,そして2007年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1992年発行,前版は1996年に発行された。
本スタンダードは,集積回路製造に使用されるマイクロパターニング装置,メトロロジ用器具およびプロセスに対して,量産適用可能な評価およびテスト方法を提供するために,幾つかの標準パターンを規定するものである。
Referenced SEMI Standards
SEMI P24 — CD Metrology Procedures
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P01900 - SEMI P19 - 集積回路製造用メトロロジパターンセル
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