P02200 - SEMI P22 - フォトマスク欠陥の分類とサイズ定義についてのガイドライン

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しな

注意:Current」のステータスを維持するための条件が現時点で満たされていないため、このスタンダードまたは安全ガイドラインは「Inactive」ステータスとなっています。「Inactive」のスタンダードまたは安全ガイドラインはSEMIから入手可能であり、引き続き有効です。

本ガイドラインは,フォトマスク上の欠陥,およびプログラム欠陥分類法を提示し,さらにサイズの定義を行なう。本文書内では,フォトマスクという言葉のみが使用されているが,レチクルという言葉とも置き換えが可能である。


フォトマスク上の欠陥の分類・呼称・サイズを表現する場合には,本ガイドラインに準ずることが望ましい。

Referenced SEMI Standards (purchase separately)

None.

Related Products
Interested in purchasing additional SEMI Standards?

Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards.

Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.

Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00