SEMI P22 - フォトマスク欠陥の分類とサイズ定義についてのガイドライン

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は20061121日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。20072月にwww.semi.orgで,そして20073月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1993年発行,前版は19996月に発行された。

 

注意: 本文書は2007年全面的に書き換えられた。

 

本ガイドラインは,フォトマスク上の欠陥,およびプログラム欠陥分類法を提示し,さらにサイズの定義を行なう。本文書内では,“フォトマスク”という言葉のみが使用されているが,“レチクル”という言葉とも置き換えが可能である。

 

Referenced SEMI Standards

None.

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