SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感度分析ベンチマーク手順についてのガイドライン

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年9月5日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年10月にwww.semi.orgで。初版は1993年発行,前版は2000年2月に発行された。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

本ガイドラインの目的は,マスク欠陥検査装置の感度評価に使用されるテストマスクを提案することである。このテストマスクは,プログラムされたパターン欠陥を含むテストチップとプログラム欠陥を含まないリファレンステストチップで構成される。テストチップはセルの集合であるから,本ガイドラインはテストチップを,セルパターン,セルパターン内のプログラム欠陥,およびセルのレイアウトによって定義する。また,テストマスクを,テストチップの配置定義によって定義する。さらに,このマスクの使用方法についても説明する。マスク欠陥検査装置の感度評価では,これらのテストマスクとベンチマーク手順を使用することが望ましい。

 

本ガイドラインは,マスク欠陥検査装置の評価に使用されるテストマスクの内容と使用方法について定義する。このテストマスクを欠陥の転写などの評価に使用することも可能であるが,本スタンダードではこれらのプロセスの定義は試みない。

 

本ガイドラインは,欠陥サイジングの効果的な新測定技術が市場で一般的に使用可能になったときに,改訂されるものとする。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask Substrates
SEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition
SEMI P33 — Provisional Specification for Developmental 230 mm Square Hard Surface Photomask Substrates

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