SEMI P24 - CD測長手順

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので,North American Microlithography Committeeが直接責任を負うものである。現版は2004年7月11日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年9月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,2004年11月発行に至る。初版は1994年発行

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

本文書の目的は露光 測長を行うにあたって,測長システムに対する統一的な手順を規定することである。ここではこれらのシステムが問題を解決するためにどのように用いられるか,あるいはウェーハの熱処理,露光機の焦点調整,材料等のプロセスパラメータに対する他の変動要因に関して重点を置くものではない。

 

本文書は特定用途 - IC製造における露光分野 に対する測定システムの能力判断について述べる。本文章では大抵の場合,"ウェーハ"を"マスク"と置き換えることにより,ICマスクの作成にも適用できる。

 

処理済みウェーハに対する最終測定は電気特性であるといえよう。しかし,途中で露光に関する測定を行うことは最終的な電気特性を予測し,制御するうえで有用であるといえる。本文章の目的は使われている技術に関係なく,この露光 測長に関して有効に利用されることである。

 

測定結果とシステム能力は使用されたサンプルによる。そこで異ったシステム,あるいは同一のシステムを異なったときに使用した場合の能力は,同一組成のサンプルで得られた測定結果で比較されなければならない。

 

ここで述べるパラメータは精度である。また,他の重要なパラメータは信頼性と清浄度である。これらは他のSEMIスタンダードでも述べられている。

 

Referenced SEMI Standards

SEMI E10 — Standard for Definition and Measurement of Equipment Reliability, Availability, and Maintainability (RAM)
SEMI P19 — Specification for Metrology Pattern Cells for Integrated Circuit Manufacture

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