P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク(ハーフトーン型位相シフトマスク)およびマスクブランクスに特有な特性の仕様

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本仕様は,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は200598日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。200510月にwww.semi.orgで,そして200511月にCD-ROMで入手可能となる。初版は19979月に発行された。


注意: 本文書は2005年,全面的に改訂された。


本仕様は,減衰型位相シフトマスク(ハーフトーン型位相シフトマスク 以下省略)およびマスクブランクスに特有な特性について記載する。


Referenced SEMI Standards

SEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask Substrates
SEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition

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