SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク(ハーフトーン型位相シフトマスク)およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 -
Abstract
本仕様は,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2005年9月8日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2005年10月にwww.semi.orgで,そして2005年11月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1997年9月に発行された。
注意: 本文書は2005年,全面的に改訂された。
本仕様は,減衰型位相シフトマスク(ハーフトーン型位相シフトマスク ; 以下省略)およびマスクブランクスに特有な特性について記載する。
Referenced SEMI Standards
SEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask Substrates
SEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition
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P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク(ハーフトーン型位相シフトマスク)およびマスクブランクスに特有な特性の仕様
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