P03100 - SEMI P31 - 化学増幅型（CA）フォトレジストパラメータのカタログ発行の作業方法

SEMI P31 - 化学増幅型（CA）フォトレジストパラメータのカタログ発行の作業方法 -

Member Price: $164.00
Non-Member Price: $215.00

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

Revision: SEMI P31-0304 - Superseded

Revision

Abstract

本作業方法は，Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は，2004年1月9日Japanese Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能になり，2004年3月発行に至る。初版は1997年9月発行。

 

本文書の目的は，化学増幅型（CA： chemical amplified）フォトレジストパラメータ発行のベースラインを提供することである。

　

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None.

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