P03100 - SEMI P31 - 化学増幅型(CA)フォトレジストパラメータのカタログ発行の作業方法

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本作業方法は,Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので,Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は,200419Japanese Regional Standards Committeeにて承認されている。20042月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,20043月発行に至る。初版は19979月発行。


本文書の目的は,化学増幅型(CA chemical amplified)フォトレジストパラメータ発行のベースラインを提供することである。


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