SEMI P34 - 230mm方形フォトマスク基板の仕様

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年4月25日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年6月にwww.semi.orgで。初版は2000年2月に発行された。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

公称エッジ長が230 mmの名目上の方形フォトマスク基板に関するスタンダードの要求条件を定義する。

 

本仕様は,230 mm方形フォトマスクの基板に関する情報を扱う。この情報には,物理的寸法,材料特性,および試験と測定基準などが含まれるが,これらに限定されるものではない。

 

Referenced SEMI Standards

None.

Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00