P03700 - SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様

SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様 -

Member Price: $171.00
Non-Member Price: $224.00

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

Revision: SEMI P37-1102 - Superseded

Revision

Abstract

本スタンダードは，Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，North American Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は，2002年8月29日 North American Regional Standards Committeeに承認された。2002年9月にまずwww.semi.orgで入手可能となり，2002年11月発行に至る。初版は2001年11月。

 

本仕様は，極紫外線リソグラフィ（EUVL）マスク用の基板に関する一般的要求条件を記述している。

　

Referenced SEMI Standards

None.

Interested in purchasing additional SEMI Standards?

Consider SEMIViews, an online portal with access to over 1000 Standards.

Refund Policy: Due to the nature of our products, SEMI has a no refund/no exchange policy. Please make sure that you have reviewed your order prior to finalizing your purchase. All sales are final.

You May also Like