SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード(OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD)

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008118日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。20082月にwww.semi.orgで,そして20083月にCD-ROMで入手可能となる。初版は20043月発行,前版は200511月に発行された。

 

本仕様の目的は,階層構造を有する集積回路のマスクのレイアウト情報のための相互交換およびカプセル化のフォーマットを定義することである。

 

背景2001年の秋,SEMIData Path Task Forceは古くからあるGDSIIストリームフォーマットにとってかわるフォーマットを定義するためのワーキンググループを作った。GDSIIストリームフォーマットは,レイアウトを相互交換するためのIC業界のデファクトスタンダードとして20年以上も機能してきた。この古いフォーマットは,16ビットと32ビットの内部整数フィールドに制限され,セルの幾何学図形の表現が不十分であること,および構造的オーバーヘッドが大きいことにより,最先端の設計に使用することが困難になってきており,ファイルサイズも場合によっては数十ギガバイトになるなど膨大なサイズになった。後継のフォーマットでは,次のような全体的な目標を与えた。

·       GDSIIストリームよりも,ファイルサイズを少なくとも1桁小さくするように改善すること。

·       16ビットと32ビットの整数幅のすべての制限を取り除き,完全な64ビットを可能にさせる新しいフォーマットを作成すること。

·       フラットな幾何学図形を多数含むセルを効率的に表現すること。

·       設計と製造の間でレイアウト関連の情報の交換を容易にするために,より豊富な情報パレットを提供すること。

 

SEMI Data Path Task Forceの形成に至る数ヶ月間,International Sematechは,マスクEDAの課題に焦点を当てた一連の会議を主催した。タスクフォースの多くの参加者は,これらのSematechの会議にも関わり,これらのセッションからのはるかに有用な情報により,この仕様の定義を進展させた。

 

 

Referenced SEMI Standards

None.

Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00