SEMI P41 - XMLによる,検査装置,修正装置およびレビュー装置間で取扱うマスク欠陥データ仕様

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
Abstract

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version.

免責事項: このSEMIスタンダードは,投票により作成された英語版が正式なものであり,日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます。

SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております(「すべきである」「しなければならない」について等)。

 

本仕様は,Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので,Japanese Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は,200年月9日Japanese Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年2月にまずwww.semi.orgで入手可能になり,2004年3月発行に至る。

E 本スタンダードは2004年9月,編集上の誤りを修正するため改訂された。表2および3で変更がなされている。

 

NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use.

 

このデータ構造仕様は,マスクファブ内のマスク欠陥検査装置,欠陥修正装置,レビュー装置間で扱う欠陥情報交換を,標準的XMLフォーマットを使用して行うものである。

 

装置間で欠陥情報を相互利用する。

 

欠陥検査装置,欠陥修正装置,レビュー装置以外の装置,システムでの選択利用。

 

この標準化されたデータ構造を用いる装置サプライヤは,特定のソフトウエアおよびハードウエアに依存する事なく,必要な情報の送受信ができる。

 

本スタンダードは,半導体製造用フォトマスクの欠陥関連情報に適応できるものとする。

 

このデータ構造は,送信されるXMLファイルの階層構造とタグ名及び内容を定義する。このスタンダードによって,特定のデータベースやプログラミング言語が指定されることは無い。

 

Referenced SEMI Standards

None.

Member Price: $135.00
Regular price Non-Member Price: $180.00