P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード(OASIS®)の仕様

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)

本スタンダードは,global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2009513日,global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。20096月にwww.semi.orgで,そして20097月にCD-ROMで入手可能となる。初版は200511月に発行,前版は200811月に発行された。




Referenced SEMI Standards

SEMI P39 — OASIS® – Open Artwork System InterchangeStandard

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