P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様

SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 -

Member Price: $171.00
Non-Member Price: $224.00

Volume(s): Microlithography
Language: Japanese
Type: Single Standards Download (.pdf)
SEMI Standards Copyright Policy/License Agreements

Revision: SEMI P44-0709 - Superseded

Revision

Abstract

本スタンダードは，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2009年5月13日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2009年6月にwww.semi.orgで，そして2009年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は2005年11月に発行，前版は2008年11月に発行された。

 

本文書は，OASISをベースとするマスク装置の共通マスクデータフォーマットである「OASIS.MASK」の仕様を定義する。

　

Referenced SEMI Standards

SEMI P39 — OASIS® – Open Artwork System InterchangeStandard

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