SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 -

Abstract

本スタンダードは，global Microlithography Committeeで技術的に承認されている。現版は2006年11月21日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年2月にwww.semi.orgで，そして2007年3月にCD-ROMで入手可能となる。

 

本文書の目的は，微細ラインパターン形成，特にIC製造の材料およびプロセスを評価するために以下にあげる二種類のライン凹凸指標を計算する際の，標準的な手順を定めることである。第一の指標は実際のラインエッジの位置が理想的な（最もよくフィットする）ラインエッジからどの程度ずれているかに関係し，ラインエッジラフネスと呼ばれるものである。第二の指標は，局所的なライン幅の変動を定義し，ライン幅ラフネスと呼ばれる。

　

Referenced SEMI Standards

SEMI P19 — Specification for Metrology Pattern Cells for Integrated Circuit Manufacture
SEMI P35 — Terminology for Microlithography Metrology
SEMI P36 — Guideline of Magnification Reference for Critical Dimension Measurement Scanning Electron Microscopes

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