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SEMI T6 - Procedure and Format for Reporting of Test Results by Electronic Data Interchange (EDI) Sale priceMember Price: $144.00
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SEMI T2 - Specification for Marking of Wafers With a Two Dimensional Dot Matrix Sale priceMember Price: $144.00
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SEMI T16 - 極紫外線マスク自動識別用データマトリクス記号法適用の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI T15 - 治具IDの一般仕様 （コンセプト） Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI T14 - Specification for Micro ID on 300 mm Silicon Wafers Sale priceMember Price: $278.00
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SEMI T13 - Specification for Device Tracking: Concepts, Behavior, and Services Sale priceMember Price: $278.00
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SEMI T12 - Specification for Tracing Jigs and Implements Sale priceMember Price: $278.00
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SEMI T10 - 二次元データマトリクス直接マーク品質を評価する試験方法 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P9 - マイクロエレクトロニクス用レジストの機能的なテスト（ガイドライン） Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P8 - フォトレジスト中の水分の測定方法 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P7 - 粘性決定方法，方法A－動粘度 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P5 - ペリクルの仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P46 - XMLによるフォトマスクのCD計測情報データの仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P45 - マスク装置向けジョブデック・データフォーマットの仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P40 - 極紫外線リソグラフィマスクの取り付けに関する要求条件およびアライメント基準位置の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P36 - 測長走査型電子顕微鏡（CD-SEM）用倍率標準試料のガイド Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P35 - マイクロリソグラフィメトロロジの用語法 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P31 - 化学増幅型（CA）フォトレジストパラメータのカタログ発行の作業方法 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様 Sale priceMember Price: $171.00
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