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P02300 - SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感度分析ベンチマーク手順についてのガイドライン
P02300 - SEMI P23 - Guidelines for Programmed Defect Masks and Benchmark Procedures for Sensitivity Analysis of Mask Defect Inspection Systems
P02100 - SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment
SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment Sale priceMember Price: $148.00
Non-Member Price: $193.00
P02100 - SEMI P21 - マスク描画装置の精度表示のガイドライン
SEMI P21 - マスク描画装置の精度表示のガイドライン Sale priceMember Price: $176.00
Non-Member Price: $231.00
P00200 - SEMI P2 - ハードサーフェス・フォトマスク用クロムブランク
SEMI P2 - ハードサーフェス・フォトマスク用クロムブランク Sale priceMember Price: $176.00
Non-Member Price: $231.00
P00200 - SEMI P2 - Specification for Chrome Thin Films for Hard Surface Photomasks
SEMI P2 - Specification for Chrome Thin Films for Hard Surface Photomasks Sale priceMember Price: $148.00
Non-Member Price: $193.00
P02000 - SEMI P20 - EBレジストパラメータのカタログ公表のガイドライン(提案)
P02000 - SEMI P20 - Guideline for Catalog Publication of EB Resist Parameters (Proposal)
SEMI P20 - Guideline for Catalog Publication of EB Resist Parameters (Proposal) Sale priceMember Price: $148.00
Non-Member Price: $193.00
P01900 - SEMI P19 - 集積回路製造用メトロロジパターンセル
SEMI P19 - 集積回路製造用メトロロジパターンセル Sale priceMember Price: $176.00
Non-Member Price: $231.00
P01900 - SEMI P19 - Specification for Metrology Pattern Cells for Integrated Circuit Manufacture
P01800 - SEMI P18 - Specification for Overlay Capabilities of Wafer Steppers
SEMI P18 - Specification for Overlay Capabilities of Wafer Steppers Sale priceMember Price: $148.00
Non-Member Price: $193.00
P01800 - SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ能力
SEMI P18 - ウェーハステッパーのオーバーレイ能力 Sale priceMember Price: $176.00
Non-Member Price: $231.00
P01700 - SEMI P17 - 誘導結合プラズマ発光分光法(ICP)によるポジティブ・フォトレジスト・メタルイオンフリー(MIF)現像液における鉄,亜鉛,カルシウム,マグネシウム,銅,ホウ素,アルミニウム,クロム,マンガン,およびニッケルの測定
P01700 - SEMI P17 - Determination of Iron, Zinc, Calcium, Magnesium, Copper, Boron, Aluminum, Chromium, Manganese, and Nickel in Positive Photoresist Metal Ion Free (MIF) Developers by Inductively Coupled Plasma Emission Spectroscopy (ICP)
P01600 - SEMI P16 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・メタルイオンフリー(MIF)現像液中の錫の測定
P01600 - SEMI P16 - Determination of Tin in Positive Photoresist Metal Ion Free (MIF) Developers by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy
P01500 - SEMI P15 - 原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト・メタルイオンフリー(MIF)現像液中のナトリウムとカリウムの測定
P01500 - SEMI P15 - Determination of Sodium and Potassium in Positive Photoresist Metal Ion Free (MIF) Developers by Atomic Absorption Spectroscopy
P01400 - SEMI P14 - 黒鉛炉原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト中の錫の測定
P01400 - SEMI P14 - Determination of Tin in Positive Photoresists by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy
P01300 - SEMI P13 - 原子吸光分光法によるポジティブフォトレジスト中におけるナトリウムとカリウムの測定
P01300 - SEMI P13 - Determination of Sodium and Potassium in Positive Photoresists by Atomic Absorption Spectroscopy
P01200 - SEMI P12 - 誘導結合プラズマ発光分光法(ICP)によるポジティブ・フォトレジスト中の鉄,亜鉛,カルシウム,マグネシウム,銅,ホウ素,アルミニウム,クロム,マンガン,及びニッケルの測定
P01200 - SEMI P12 - Determination of Iron, Zinc, Calcium, Magnesium, Copper, Boron, Aluminum, Chromium, Manganese, and Nickel in Positive Photoresists by Inductively Coupled Plasma Emission Spectroscopy (ICP)
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